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助力斯坦福大學(xué)SLAC實驗新進展,用于快速提升高頻無源微波器件性能

更新時間:2024-09-10點擊次數(shù):181

作為美國的重要戰(zhàn)略布局科研機構(gòu),坐落在斯坦福大學(xué)中的SLAC國家加速器實驗室專門從事粒子加速器的設(shè)計與建造以及高速粒子的研究工作,并在這一專業(yè)領(lǐng)域取得了巨大成就,其中包括三項榮獲諾貝爾獎的重要發(fā)現(xiàn)。SLAC實驗室在化學(xué)、材料學(xué)、能源科學(xué)、生物科學(xué)、聚變能源科學(xué)、高能物理和宇宙學(xué)等多個前沿科學(xué)領(lǐng)域均有所貢獻。


其中,正交模耦合器(Ortho-Mode Transducer)是天線系統(tǒng)中的關(guān)鍵組件,用于分離和混合兩個相互正交的極化波,能夠?qū)⑤斎胄盘柗蛛x成兩個正交極化方向的信號,并將它們分別傳輸?shù)较鄳?yīng)的接收器或發(fā)射器中。這項技術(shù)是SLAC實驗室的重點研究方向之一,它在衛(wèi)星通信、雷達、射電望遠(yuǎn)鏡等領(lǐng)域發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,為提升這些系統(tǒng)的性能和效率提供了
重要的支持。




1. 發(fā)現(xiàn)問題與應(yīng)對挑戰(zhàn)

SLAC國家加速器實驗室的項目經(jīng)理Gregory Peter Le Sage開發(fā)了一種高頻OMT。實驗初期,該團隊嘗試使用立體光刻(SLA)技術(shù)進行3D打印。然而,由于SLA打印的OMT樣件未能達到性能預(yù)期,這促使Le Sage必須去尋找更高精度和機械強度的精密制造解決方案。

在打印OMT時,該團隊發(fā)現(xiàn)使用光學(xué)精度為50 μm的SLA打印設(shè)備會導(dǎo)致OMT出現(xiàn)了嚴(yán)重的性能缺陷。該OMT樣件在71 GHz處的插入損耗達到11 dB,遠(yuǎn)超過了數(shù)控加工原型中觀察到的可接受損耗閾值1.5 dB。由于SLA技術(shù)較低的分辨率,導(dǎo)致樣件的公差較大,致使打印樣件尺寸不精確,這嚴(yán)重影響了OMT的高頻性能,進而導(dǎo)致信號衰減和失真。模擬結(jié)果表明,即使是10 μm的輕微偏差,也可能大幅降低組件的有效性。


利用SLA技術(shù)打印的OMT樣件



2. 重新設(shè)計和工藝改進

經(jīng)過相關(guān)實驗后,Le Sage意識到,為了達到預(yù)期的效果,OMT樣件的精細(xì)度和機械強度必須要得到提升。因此,他對OMT模型進行了專門針對3D打印技術(shù)的重新設(shè)計。重新設(shè)計的目的是增強部件的結(jié)構(gòu)完整性,這對于OMT的性能和耐用性都是至關(guān)重要的。最終,他選擇了摩方精密面投影微立體光刻(PµSL)3D打印技術(shù),該技術(shù)以其高精度、高質(zhì)量、高公差控制能力等特點,可以制造出全新設(shè)計的OMT模型。


OMT模型的內(nèi)部設(shè)計



3. 先進制造和性能評估

借助摩方精密的microArch® S240(精度:10 μm)3D打印設(shè)備,該團隊完成了全新的OMT設(shè)計打印,其精度與高頻應(yīng)用所需的精度一致,進一步保障了OMT的高頻性能。3D打印完成后,OMT樣件進行了電鍍處理,通過改進了對內(nèi)部表面的接觸,進一步確保了電鍍效果。


PμSL 技術(shù)打印的OMT樣件準(zhǔn)備進行測試



通過本次研究,3D打印技術(shù)對高頻組件性能有著至關(guān)重要的影響。與傳統(tǒng)制造工藝相比,摩方精密微納3D打印技術(shù)可以實現(xiàn)高精度復(fù)雜零件的加工制造,保障了OMT能夠滿足微波通信系統(tǒng)對高性能的嚴(yán)格要求。這一技術(shù)在分辨率和公差控制上的能力對于推動研究成果的應(yīng)用具有重要意義,并助力微波通信系統(tǒng)的發(fā)展,為通信技術(shù)的未來進步開辟了新的路徑。


OMT垂直極化S21測試